东莞市正凯机电设备有限公司
一、设备概述
平行光源单面双工位曝光机专门用于FILM黄光制程而设计制作的**设备，
系统采用进口平行光源、双工位抽屉进出曝光平台交替工作进行FILM湿膜、干
膜曝光。双工位平台真空吸附将FILM与MASK贴紧，曝光解析度20UM。
二、设备规格以及主要技术指标
◆产品规格:有效曝光面积400MMx500MM
◆曝光平台面积：500MMx600MM
◆电源: AC380V 3f 50HZ 7KVA
◆机台外尺寸: W1350MMxL3250MMxH2350MM
◆曝光方式:单面曝光玻璃VS玻璃x2组，采用电磁锁控制
◆光学系统:采用进口曲面MIRROR反射光学系统
◆冷却系统:灯管:外部冰水冷却内循环水.
台面:强制气冷式
◆曝光控制器:智慧型人机界面及曝光能量控制(能量模式及时间模式)
◆真空系统:400MMHG以上
◆灯源:UV能量积分器进行曝光能量设置和控制主动风冷式降温保护
(有紧急停止保护)
◆空压系统:4-7KF/CM2,中12MM, 200L /MIN
◆平行半角:DA<2。
◆曝光精度:线路宽30UM，线间距30UM
◆曝光能量设置:365NM
◆点灯计时:配置时间计时器，可清零
◆平台平面精度:0.02MM内
◆平台真空:平台真空将FILM与MASK贴紧(使用鉻版时可不用）
◆平台进出曝光区:上下框架交替进出
◆机内环境: CL ASS100内
◆检测系统:程序及传感器检测动作到位状况
◆灯管保护:灯室过热检知及门打开时UV灯强制熄灭
