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江苏镀膜机生产厂家PECVD等离子体增强化学气相沉积设备用途： 本设备采用等离子体增强化学气相沉积工艺，在光学玻璃等沉底材料上沉积半导体薄膜材料，制备非晶硅半导体薄膜器件，可用于氧化硅、氮化硅、碳化硅及类金刚石碳的沉积。广泛应用于大专转校、科研院所的薄膜材料的科研与小批量制备。 技术指标： 1 极限真空度：6.67×10-5Pa； 2 基片尺寸：Φ100mm； 3 加热温度可达：500℃； 4 真空机组：分子泵+机械泵 5 工作气路：质量流量控制器4路；江苏镀膜机生产厂家
联系电话是024-88090130, 主要经营雾化制粉设备、SPS热压烧结炉、电弧纳米粉生产线、非自耗电弧熔炼炉、冷坩埚悬浮熔炼炉。
单位注册资金单位注册资金人民币 1000 - 5000 万元。
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