沈阳金研新材料制备技术有限公司
PVD镀膜机销售PVD磁控溅射镀膜系统设备用途:
用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。
结构特点:
1 三个磁控靶对单个样品实现共溅射,可单独、顺序、一起工作,实现单层膜,多层膜及复合膜的生长
2 采用进口磁控靶,工作稳定;进口气体流量控制器,保证进气稳定;可通过流量计+闸板阀或薄膜规+闸板阀实现压力平衡的准确控制;保证工艺稳定性及可重复性
技术指标:
1 极限真空度:5.0×10-5Pa;
2 磁控靶:3~5支,Φ2英寸;
3 加热温度:600℃;
4 偏压:可加偏压-200V;
5 样品台尺寸:可达4英寸;
6 真空机组:分子泵+机械泵
7 工作气路:3路,200SCCM、100SCCM、50SCCM;PVD镀膜机销售
欢迎来到沈阳金研新材料制备技术有限公司网站,我公司位于有2300年建城史,素有“一朝发祥地,两代帝王都”之称的国家历史文化名城—沈阳。 具体地址是
辽宁沈阳辽宁省沈阳市东陵区创新路155-5号417室,联系人是徐诗洋。
联系电话是024-88090130,
主要经营雾化制粉设备、SPS热压烧结炉、电弧纳米粉生产线、非自耗电弧熔炼炉、冷坩埚悬浮熔炼炉。
单位注册资金单位注册资金人民币 1000 - 5000 万元。