北京浅蓝纳米科技发展有限责任公司
技术指标:
1. 真空室的极限真空度达5*10-5pa,漏率为关机12小时≤5pa
2. 真空腔内配有集约样品台一套,配有大挡板和16套小挡板,手动
控制,开关方便快捷,每个小挡板挡两块30*30mm样片
3.蒸发源共14套,其中10套有机蒸发源,4套金属蒸发源。控温
精度±1℃,可以实现温度或电流补偿实现蒸镀速率稳定的功能
4.金属蒸发源配4台一带一1000W可控硅调压电源,通过铜电极
连接,两端可夹钨绞丝或者钽舟,钨绞丝可以蒸镀丝状或者大颗粒
材料,钽舟可以蒸镀粉末状材料,蒸发源采用陶瓷全密封,避免交
叉污染
5.有机蒸发源配10台一带一温控电源,有机源温度为室温-500度,
可以根据材料及用户需求自行调节
6.样品台具有旋转、升降功能,可在线更换掩膜板一次,可同时装
载30mm*30mm样品16块。本产品每两个样品都配有小挡板,
并且通过PLC控制步进电机对每个小挡板做16个定位,使机械手
推拉小挡板,样品与蒸发源之间的间距为200-300mm
欢迎来到北京浅蓝纳米科技发展有限责任公司网站,我公司位于拥有6项*遗产,拥有文化遗产项目数较多的城市,一座有着三千余年建城历史、八百六十余年建都史的历史文化名城,拥有众多历史名胜古迹和人文景观的中国“八大古都”之一 —北京。 具体地址是
北京大兴旧宫旧桥路25号院,联系人是杨利佳。
联系手机是18600170409,
主要经营我公司自主研发实验用PE-CVD、热蒸发镀膜机、磁控溅射镀膜机、ALD、PLD等镀膜设备,还自主研发实验用真空电弧炉、真空感应熔炼炉。负责产品的销售和售后维护。。
单位注册资金单位注册资金人民币 100 - 250 万元。